07
2024-03
离子束辅助沉积技术的特点
① 离子束辅助沉积技术的最大特点是膜与基体间的附着力强，膜层十分牢固。实验表明:离子束辅助沉积的附着力比热蒸镀的附着力提高了几倍到几百倍，其原因主要是由于离子轰击对表面所产生的清洗作用，使膜基界面上形成梯度界面结构或称混合过渡层，以及减少膜的应力所致。
② 离子束辅助沉积可改善膜的机械性能、延长疲劳寿命，非常适合制备氧化物、碳化物、立方 BN、TiB:以及类金刚石涂层等。例如在1Crl8Ni9Ti耐热钢上采用离子束辅助沉积技术生长 200nm的SiN,薄膜时，不仅可以抑制材料表面疲劳裂纹的萌生，而且可以明显地降低疲劳裂纹的扩散速率，对延长其寿命有着良好的作用。
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07
2024-03
真空离子镀膜
真空离子镀膜(简称离子镀)是1963年美国 Somdia 公司的 D.M.Mattox 提出的,20世纪70年代得到快速发展的一种全新表面处理技术。它是指在真空气氛中利用蒸发源或溅射靶使膜材蒸发或溅射，蒸发或溅射出来的一部分粒子在气体放电空间中电离成金属离子，这些粒子在电场的作用下沉积到基体上生成薄膜的一种过程。
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01
2024-03
等离子体增强化学气相沉积
化学气相沉积( Chemical Vapor Deposition,CVD),顾名思义就是利用气态先驱反应物，通过原子、分子间化学反应的途径来生成固态薄膜的技术。
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2024-03
化学气相沉积技术概述
化学气相沉积技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。
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