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离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

CVD设备特点

真空镀膜机是做什么的？有什么作用？

所谓真空镀膜机工艺在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层，

真空离子镀膜机及其分类

真空离子镀膜机(简称离子镀)是1963年美国的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世纪 70年代得到快速发展的一种全新的表面处理技术。

光学镀膜机可镀制多种光学膜

①减反射膜。例如，照相机、幻灯机、投影仪、电影放映机、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和棱镜上所镀的单层 MgF薄膜，双层或多层的由 SiOFrO2、AlO、 TiO₂等薄膜组成的宽带减反射膜。

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