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2023-08
反应磁控溅射制备化合物薄膜的特点
反应磁控溅射即在溅射过程中供入反应气体与溅射粒子进行反应，生成化合物薄膜它可以在溅射化合物靶的同时供应反应气体与之反应，也可以在溅射金属或合金靶的同时供应反应气体与之反应来制备既定化学配比的化合物薄膜。反应磁控溅射制备化合物薄膜的特点是:
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2023-08
真空阴极电弧离子镀工作原理
当阴极受到大量高速正离子轰击而被加热到高温时，因阴极产生显著的热电子发射，从而使等离子体放电中的阴极位降降低，放电电流增大。该阴极位降只需保持阴极区能量(即电流与阴极位降的乘积)，即足以使阴极维持电子热发射所需要的温度，就可维持弧光放电。
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2023-08
真空蒸镀的简介
真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是在真空环境下，用蒸发器加热膜材使之气化，膜材蒸发的粒子流直接射向基片并在基片上沉积，形成固态薄膜的技术。
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2023-08
真空阴极电弧离子镀概述
真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源) 时，则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术，它与空心阴极放电的热电子电弧不同，它的电弧形式是在冷阴极表面上形成阴极电弧斑点。
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