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钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

CVD设备特点

CVD技术一般来说，具有如下一些特点: 1、设备的工艺操作都较简单、灵活性较强能制备出配比各异的单一或复合膜层和合金膜层； 2、CVD法的适用性较广泛，可制备各种金属或金属膜涂层； 3、因沉积速率可高达每分钟几微米到数百微米，因此生产效率高； 4、与PVD 法相比较绕射性好，非常适宜涂覆形状复杂的基体，如槽沟、涂孔甚至盲孔结构均可镀制成膜，涂层致密性好，由于成膜过程温度较高，膜基界面上的附着力很强，故膜层十分牢固 5、承受放射线辐射后的损伤较低，能与 MOS 集成电路工艺相融合。

真空镀膜机是做什么的？有什么作用？

所谓真空镀膜机工艺在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层，

真空离子镀膜机及其分类

真空离子镀膜机(简称离子镀)是1963年美国的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世纪 70年代得到快速发展的一种全新的表面处理技术。

光学镀膜机可镀制多种光学膜

①减反射膜。例如，照相机、幻灯机、投影仪、电影放映机、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和棱镜上所镀的单层 MgF薄膜，双层或多层的由 SiOFrO2、AlO、 TiO₂等薄膜组成的宽带减反射膜。

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