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钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

真空离子镀膜机及其分类

真空离子镀膜机(简称离子镀)是1963年美国的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世纪 70年代得到快速发展的一种全新的表面处理技术。

光学镀膜机可镀制多种光学膜

①减反射膜。例如，照相机、幻灯机、投影仪、电影放映机、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和棱镜上所镀的单层 MgF薄膜，双层或多层的由 SiOFrO2、AlO、 TiO₂等薄膜组成的宽带减反射膜。

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高真空镀膜设备的环境要求

由于真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制定的各类真空镀膜设备的行业标准(包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。

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真空镀膜设备的特点

1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)。

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