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专为客户供应优质PVD真空镀膜机的生产厂家
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一家专门为客户提供优质真空镀膜解决方案的企业
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广东振华科技股份有限公司始创于1992年,是一家专门为客户提供优质真空镀膜解决方案的企业,公司独立研发、生产、销售真空镀膜设备,提供镀膜工艺及技术支持。公司总部设立在广东省肇庆市,在肇庆市设立了三个生产基地,分别为云桂振华工业园、北岭生产基地以及蓝塘生产基地;同时设有广东振华科技股份有限公司广东广州分公司、湖北办事处等多个销售服务点。

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NEWS
12.22
广东振华生日会丨温暖冬日,共悦生辰
一片彩霞迎曙日,万条红烛动春天,在这腊梅报春来的季节里,我们迎来十二月生日的家人们的生日会
12.14
离子轰击对膜/基界面的影响
当膜材原子开始沉积时,离子轰击对膜/基界面会产生如下影响: (1) 物理混合。因为高能离子注人,沉积原子的被溅射以及表面原子的反冲注入与级联碰撞现象,将引起近表面区膜/基界面的基片元素和膜材元素的非扩散型混合,这种混合效果将有利于在膜/基界面间形成“伪扩散层”,即膜/基界面间的过渡层,厚达几微米其中甚至会出现新相。这对提高膜/基界面的附着强度是十分有利的。 (2) 增强扩散。近表面区的高缺陷浓度和较高的温度会提高扩散率。由于表面是点缺陷,小离子有偏析表面的倾向,离子轰击有进一步强化表面偏折的作用并增强沉积原子和基片原子的相互扩散。
12.14
磁场在磁控溅射中的作用
磁控溅射主要包括放电等离子体输运、靶材刻蚀、薄膜沉积等过程,磁场对磁控溅射各个过程都会产生影响。在磁控溅射系统中加上正交磁场后,电子受到洛伦兹力的作用而做螺旋径迹运动,必须经过不断的碰撞才能渐渐运动到阳极
12.14
PECVD 技术的特点
(1)等离子体增强化学气相沉积温度低。等离子体增强化学气相沉积技术的优势在于它可以在比传统的化学气相沉积低得多的温度下获得单质或化合物薄膜材料。