随着手机产业需求迅速增长，传统光学机的装载量已无法满足，振华为解决这一需求推出了磁控溅射镀光学膜设备。
设备特点：
（1）工件架采用圆筒式设计，镀膜面积大，产品装载量是同规格电子束蒸发设备的2倍。工件架设计公转与自转结构，可适应多种形状工件，用途更广；
（2）采用中频磁控圆柱靶溅射系统及离子源辅助系统，膜层致密，折射率高且稳定，附着力强，不易吸附水汽分子，在各类环境中，比传统电子束蒸发设备所沉积的膜层保持更稳定的光学性能；
（3）配备了晶控监测系统精确控制膜层厚度，工艺稳定性高，重复性好；SPEEDFLO闭环及全自动控制系统，有效提高SiO2的沉积速率；
（4）恒温夹具设计有效控制产品温度，可适应超薄PET、PC材质类产品。
设备可用于沉积TiO2、SiO2、Nb2O5、In、Ag、Cr等材料，可实现各类光学彩膜、AR膜、分光膜等，已广泛应用于PET膜片/复合板、手机盖板玻璃、手机中框、3C电子产品、太阳眼镜、香水瓶、水晶等产品。
