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2022-05
硬质涂层的发展、现状及未来
经过数十年的发展，硬质涂层的发展已经上了一个新的台阶。从二十世纪七十年代化学气相沉积（CVD）技术制备TiN开始，经历了物理气相沉积(PVD)技术的出现，TiAlN涂层的广泛应用，直至如今的AlTiN，CrAlN，TiAlSiN，金刚石等一系列新型涂层的诞生和应用。硬质涂层已经呈献百花齐放的态势。
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07
2022-05
PECVD沉积氮化硅薄膜
等离子体增强化学气相沉积( PECVD)是利用辉光放电的物理作用来激活粒子的一种化学气相沉积( CVD)反应，是集等离子体辉光放电与CVD于一体的薄膜沉积技术。PECVD沉积氮化硅的过程温度仅需300～400℃，因此氮化硅不会出现因温度过高引起器件失效的问题。此外，PECVD法还可以通过改变沉积参数的方法制备不同应力状态的薄膜以满足不同的需要。
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07
2022-05
机加工如何正确选择刀具涂层，提高刀具寿命？
刀具表面涂层技术是应市场需求而发展起来的一种表面改性技术，自上世纪60年代出现以来，该项技术在金属切削刀具制造业内得到了极为广泛的应用。尤其是高速切削加工技术出现之后，涂层技术更是得到了迅猛的发展与应用，并成为高速切削刀具制造的关键技术之一。该项技术通过化学或物理的方法在刀具表面形成某种薄膜，使切削刀具获得优良的综合切削性能，从而满足高速切削加工的要求。
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2022-05
什么是真空离子镀膜
真空离子镀膜技术（简称离子镀）是由美国Sandin公司开发的将真空蒸发和真空溅射结合的一种镀膜技术。离子镀膜过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面的过程。
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