1) 比平面靶的靶材利用率高。在镀膜过程中，无论是旋磁型还是旋靶管型柱状磁控溅射靶，靶管表面各个部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射，靶材可以受到均匀的溅射刻蚀，靶材利用率高。靶材利用率高达80%~90%。

2)不容易产生“靶中毒”。镀膜过程中靶管表面始终受到离子的溅射刻蚀表面上不容易积存很厚的氧化物等绝缘膜，不容易产生“靶中毒”。

3)旋靶管型柱状磁控溅射靶的结构简单，安装方便。

4)靶管材料成分多样。平面磁控溅射靶靶材用金属靶材时直接水冷，而一些不能加工成形的靶材，如 Cr、（In2-SnO2）靶等用粉末材料进行热等静压方式获得板状靶材，由于尺寸不能做得很大，又有脆性，所以需要用钎焊方式与铜背板连成一体再安装在靶座上。柱状靶材除了用金属管材之外，还可以在不锈钢管表面喷涂各种需要镀膜的材料，如 Si、Cr 等。

    目前，在产业化生产中采用旋靶管型柱状磁控溅射靶进行镀膜的比例在增加而且不单是立式镀膜机，卷绕镀膜机中的孪生靶也在用柱状磁控溅射靶，近几年逐渐用柱状孪生靶替代平面孪生靶。

                                                                                                                                                     ——本文由真空磁控溅射镀膜设备厂家广东振华科技发布。