磁控溅射镀膜机的工艺过程

文章作者:广东振华科技
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发布时间:2023-04-04
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1、轰击清晰工件

1)沉积功能薄膜的磁控射离子机中,采用辉光放电产生的氩离子清洗工件。即向镀膜室充入氩气,放电电压为 1000V左右,接通电源以后产生辉光放电,用氩离子轰击清洗工件。

真空磁控溅射镀膜设备.png

2)产业化生产高端装饰品的磁控溅射镀膜机中,多采用小弧源发射的钛离子进行清洗。磁控溅射镀膜机配置小弧源,用小弧源放电产生的弧光等离子体中的钛离子流轰击清洗工件。

2.镀氮化钛膜层

    沉积氮化钛薄膜时,磁控溅射靶靶材选用钛靶。靶材接磁控溅射电源的负极,靶电压为400~500V;氩气的通入量固定,控制真空度为(3~8)x10-1PA,工件接偏压电源的负极,电压为100~200V。

    开启磁控溅射钛靶电源后产生辉光放电,高能的氩离子轰击溅射靶材,从靶材上溅射出钛原子。

    通入反应气体氮气,钛原子和氮气在镀膜室内被电离成为钛离子、氮离子。在工件所加负偏压电场的吸引下,钛离子、氮离子加速到达工件表面化合反应沉积生成氮化钛膜层。

3.取出工件

达到预定的膜层厚度以后,关闭磁控溅射电源、工件偏压电源、气源。待工件温度低于 120℃后,向镀膜室通人空气,取出工件。


本文由磁控溅射镀膜机厂家——广东振华发布。

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