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2022-05
真空镀膜机中机械泵的使用
机械泵也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。机械泵有很多种，常用的有滑阀式、活塞往复式、定片式和旋片式四种类型。
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07
2022-05
真空等离子清洗机，可定制化设计
等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光。等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效果。
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2022-05
硬质涂层的发展、现状及未来
经过数十年的发展，硬质涂层的发展已经上了一个新的台阶。从二十世纪七十年代化学气相沉积（CVD）技术制备TiN开始，经历了物理气相沉积(PVD)技术的出现，TiAlN涂层的广泛应用，直至如今的AlTiN，CrAlN，TiAlSiN，金刚石等一系列新型涂层的诞生和应用。硬质涂层已经呈献百花齐放的态势。
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2022-05
PECVD沉积氮化硅薄膜
等离子体增强化学气相沉积( PECVD)是利用辉光放电的物理作用来激活粒子的一种化学气相沉积( CVD)反应，是集等离子体辉光放电与CVD于一体的薄膜沉积技术。PECVD沉积氮化硅的过程温度仅需300～400℃，因此氮化硅不会出现因温度过高引起器件失效的问题。此外，PECVD法还可以通过改变沉积参数的方法制备不同应力状态的薄膜以满足不同的需要。
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