GX2350 光学镀膜设备专为光变粉末等光变类材料制备而设计，适用于彩妆、防伪、变色龙粉末等产品的批量化生产。设备具备大尺寸、大产能优势，可满足高效率量产需求。

设备采用高能电子束蒸发技术，可使熔点高达3000摄氏度以上的镀料实现蒸发，获得高纯度、高热效率的光学涂层。

 采用大弧度伞架，大幅提高设备产能，降低客户制造成本。结合送铝丝电阻蒸发，多组脱膜剂电阻蒸发，大容量环埚，多穴位坩埚，帮助客户实现多套数的镀膜，减少开门次数，提升产能。
设备采用工控机+PLC+自动膜厚监控系统构建全自动镀膜系统，确保镀膜过程稳定，重复性。


                                                                                                                           GX2350 设备尺寸（容器内尺寸）:φ2350*H1800(mm)