化学气相沉积技术概述

文章作者:广东振华科技
阅读:111
发布时间:2024-03-01
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  化学气相沉积技术,简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。一般把反应物是气体而生成物之一是固态的反应,成为CVD反应。利用CVD反应所制备的涂层种类较多,特别是在半导体工艺中用途广泛,例如在半导体领域,原料的精制、高质量半导体单晶膜的制备、多晶膜非晶膜的生长,可以说从电子器件到集成电路的制作等无一不与CVD技术有关。此外,在材料表面处理上更是受到人们青睐,例如机械、核反应堆、宇航、医用以及化工设备等各种材料都可以按照它们不同要求,采用CVD成膜方法制备出具有防腐蚀、耐热、耐磨、表面强化等功能性涂层。

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